[비즈니스포스트] 삼성전자 자회사 세메스의 기술을 중국으로 유출한 세메스 전 직원 등 5명이 기소됐다.
16일 법조계에 따르면 수원지검 방위사업·산업기술범죄형사부(박진성 부장검사)는 세메스 전 직원 A씨 등 4명과 중국 국적의 기술유출 브로커를 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소했다.
세메스에서 퇴직해 별도 회사를 차린 A씨 등은 세메스가 세계 최초로 개발과 양산에 성공한 ‘초임계 반도체 세정 장비’의 핵심 도면을 2021년 6월 협력사 대표에게서 부정 취득한 뒤 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의를 받는다.
초임계 반도체 세정장비는 약액 등으로 20나노 이하의 메모리 반도체 집적회로를 만드는데 사용되는 웨이퍼를 세정한 뒤 초임계 상태(임계 이상의 고온·고압의 물질의 상태)의 이산화탄소를 이용해 웨이퍼를 건조하는 장비다.
기판 손상을 최소화해 초미세 반도체의 불량률을 줄일 수 있는 기술로 세메스를 제외하면 일본 기업 한 곳만 구현 가능하다.
또 세메스의 인산 세정 장비 기술자료를 누설한 혐의도 받는다. 이 기술은 세메스가 세계에서 두 번째로 개발에 성공했다.
이들은 지난 2019년 12월부터 3년 동안 세메스에서 빼돌린 기술정보를 활용해 반도체 세정 장비 등 20대를 제작한 뒤 이를 중국으로 수출해 1200억 원가량을 챙긴 것으로 조사됐다.
검찰은 2022년 5월 같은 혐의로 세메스 전 연구원 등 9명과 이들이 설립한 법인을 기소하기도 했다. 나병현 기자
16일 법조계에 따르면 수원지검 방위사업·산업기술범죄형사부(박진성 부장검사)는 세메스 전 직원 A씨 등 4명과 중국 국적의 기술유출 브로커를 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소했다.
▲ 검찰이 삼성전자 자회사 '세메스'의 반도체 기술을 중국에 유출한 세메스 전 직원 등 5명을 기소했다.
세메스에서 퇴직해 별도 회사를 차린 A씨 등은 세메스가 세계 최초로 개발과 양산에 성공한 ‘초임계 반도체 세정 장비’의 핵심 도면을 2021년 6월 협력사 대표에게서 부정 취득한 뒤 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의를 받는다.
초임계 반도체 세정장비는 약액 등으로 20나노 이하의 메모리 반도체 집적회로를 만드는데 사용되는 웨이퍼를 세정한 뒤 초임계 상태(임계 이상의 고온·고압의 물질의 상태)의 이산화탄소를 이용해 웨이퍼를 건조하는 장비다.
기판 손상을 최소화해 초미세 반도체의 불량률을 줄일 수 있는 기술로 세메스를 제외하면 일본 기업 한 곳만 구현 가능하다.
또 세메스의 인산 세정 장비 기술자료를 누설한 혐의도 받는다. 이 기술은 세메스가 세계에서 두 번째로 개발에 성공했다.
이들은 지난 2019년 12월부터 3년 동안 세메스에서 빼돌린 기술정보를 활용해 반도체 세정 장비 등 20대를 제작한 뒤 이를 중국으로 수출해 1200억 원가량을 챙긴 것으로 조사됐다.
검찰은 2022년 5월 같은 혐의로 세메스 전 연구원 등 9명과 이들이 설립한 법인을 기소하기도 했다. 나병현 기자