[비즈니스포스트] 삼성전자가 네덜란드 반도체 장비기업 ASML이 주도하는 &#39;대형 마스크 컨소시엄&#39;에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발에 나선다고 8일 밝혔다.<br /> <br /> 삼성전자는 ASML과 함께 기존 6인치 중심의 반도체 노광용 포토마스크를 12인치로 확대하기 위한 기술 개발과 표준화 작업을 추진한다.<br /> &nbsp; <figure class="image" style="float:right;margin-right:0px; margin-left:15px; margin-top:30px; "><img alt="삼성전자, 네덜란드 ASML과 손잡고 12인치 포토마스크 개발 나서 " height="150" class='lazyload' data-src="https://www.businesspost.co.kr/news/photo/202403/20240312162923_74740.jpg" width="300" /> <figcaption><table width=320><tr><td align='left' style='margin:0; padding:0px 0px; color:#306f7f; font-size:12px; font-family:verdana; letter-spacing:-0.1em; line-height:160%; table-layout: fixed; width:180px;'>▲ 삼성전자가 네덜란드 ASML과 손잡고 12인치 포토마스크 개발에 나선다고 8일 밝혔다. &lt;삼성전자&gt;</td></tr></table></figcaption> </figure> <br /> 양사는 노광장비와 포토마스크 관련 글로벌 기술 동향을 공동으로 모니터링하고, 12인치 포토마스크 개발을 위한 공동 연구와 표준 개발 등을 진행한다는 계획을 세웠다.<br /> <br /> 포토마스크는 반도체 회로 패턴을 정밀하게 새겨놓은 일종의 &#39;틀&#39;이다.<br /> <br /> 노광 공정에서 빛을 이용해 포토마스크의 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하는 데 사용된다. 미세한 회로를 얼마나 정밀하게 구현할 수 있는지가 반도체 성능과 수율에 영향을 미치는 핵심 부품이다.<br /> <br /> 현재 반도체 노광 공정에서는 주로 6인치 크기의 포토마스크가 사용되고 있다. 하지만 차세대 &#39;하이-NA 극자외선(EUV)&#39; 노광장비가 도입되면서 12인치 대형 포토마스크의 필요성이 커지고 있다.<br /> <br /> 12인치 포토마스크를 활용하면 기존 6인치 마스크를 여러 장으로 나눠 회로를 노광한 뒤 이를 연결하는 &#39;스티칭&#39; 공정을 줄일 수 있다. 이에 따라 미세 회로를 더 효율적으로 구현하면서 공정 복잡도를 낮추고 생산성을 높일 수 있을 것으로 기대된다.<br /> <br /> 특히 수백억 개의 트랜지스터가 집적되는 첨단 반도체에서는 회로 패턴을 한 번에 넓은 면적에 구현할 수 있는 대형 마스크의 중요성이 더욱 커진다. 12인치 포토마스크가 상용화되면 하이-NA EUV의 높은 해상도와 넓은 노광 영역을 더 효과적으로 활용해 첨단 반도체 생산성과 경제성을 높일 수 있다.<br /> <br /> 삼성전자는 메모리와 파운드리 분야에서 EUV 노광 기술을 적극 활용해 온 만큼 12인치 포토마스크 기술 개발과 표준화 과정에서도 핵심 역할을 할 것으로 예상된다.<br /> <br /> 삼성전자는 2028년까지 ASML의 차세대 하이-NA EUV 장비를 첨단 D램 생산에 도입하기 위한 협력도 강화한다.<br /> <br /> 하이-NA EUV는 기존 EUV보다 더 높은 해상도로 회로를 구현할 수 있는 차세대 노광 기술이다. 삼성전자는 이를 첨단 D램 제조에 적용해 반도체 미세화 한계를 돌파하고 공정을 단순화하는 동시에 생산성을 높인다는 방침을 정했다.<br /> <br /> <a href='https://www.businesspost.co.kr/BP?command=article_view&num=444352' class='human_link' style='text-decoration:underline' target='_blank'>전영현</a> 삼성전자 대표이사 부회장은 &quot;인공지능(AI) 시대의 도래는 반도체 산업의 패러다임을 바꾸고 있으며 밸류체인 전반에서 기술 혁신의 중요성을 더욱 높이고 있다&quot;며 &quot;삼성전자는 혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가고 ASML과의 협력을 한층 강화함으로써 &#39;Next AI&#39;를 위한 기술 기반을 마련해 나갈 것&quot;이라고 말했다.<br /> <br /> 크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 &quot;삼성전자는 오랜 기간 ASML의 가장 중요한 혁신 파트너 중 하나로 그동안 현대 반도체 제조의 기반이 되는 기술을 함께 발전시켜 왔다&quot;며 &quot;AI가 이끄는 새로운 시대를 맞아 삼성전자와 함께 차세대 반도체 제조를 위한 혁신을 이끌어 가기를 기대한다&quot;고 말했다.<br /> <br /> 삼성전자와 ASML은 이번 협력을 계기로 첨단 노광 기술과 포토마스크 기술을 비롯해 메모리 제조와 차세대 반도체 생산 방식 등으로 협력 범위를 확대해 나가겠다고 밝혔다.&nbsp;나병현 기자